Kiseljenje
1. Svrha: ukloniti oksidni film na površini žice i formirati fosfatni film na metalnoj površini kako bi se smanjile ogrebotine na alatu i umrijeti tijekom izvlačenja žice i hladnog stupa ili procesa oblikovanja.
2. Operativni proces:
Kiseljenje: Uronite cijeli disk element u tri rezervoara klorovodične kiseline sa koncentracijom od 20-25 posto na sobnoj temperaturi na nekoliko minuta, svrha je uklanjanje oksidnog filma sa površine žice.
Clearwater: Uklonite produkte korozije klorovodične kiseline na površini žice.
Oksalna kiselina: povećava aktivnost metala kako bi film proizveden u sljedećem koraku bio gušći
Obrada premaza: uronite element diska u fosfat, kontaktirajte površinu čelika s otopinom za kemijsku obradu i otopite čelik kako bi se formirala nerastvorljiva jedinjenja (kao što je Zn2Fe(Po4)2·4H2o), koja prianjaju na površinu čelika i formiraju premaz.
Clearwater: uklonite ostatke na površini filma.
Mazivo: S obzirom da koeficijent trenja fosfatnog filma nije jako nizak, ne može dati dovoljno podmazivanja tokom obrade, ali reagira s metalnim sapunom (kao što je natrijum sapun) kako bi se formirao sloj sapuna od tvrdog metala, što može povećati njegove performanse podmazivanja.
